真空炉
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产品形貌
参数
半导体行业离子注入机离子源钨钼组件 。
离子注入是现代集成电路制造中的一种很是主要的手艺，其使用离子注入机实现半导体的掺杂，纵然用钨丝作为阴极发射电子轰击含有特定的杂质元素的气体分子，爆发电离的特定杂质原子经静电场加速后打到硅单晶圆片外貌，并打入半导体内部，改变导电特征并最终形成晶体管结构 。
要害词:
半导体
离子注入机
特定
杂质
分子
特征
使用
一种
掺杂
上一个
无
下一个
送气座
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